《電子工業(yè)專用設備》雜志投稿要求，如下：
（1）要求論文標題簡明、醒目，論文格式規(guī)范，論文自帶中/英文摘要（200字左右）及3~5個關鍵詞。
（2）投稿論文后，編輯部收到稿件后一個月內(nèi)通知作者初審結果，在此期間請勿一稿多投。
（3）正文應條理清晰，層次分明。文中插圖應比例適當、清楚美觀，標明圖序與圖題；表格應結構簡潔，盡量采用“三線表”，必要時可添加輔助線，要有表序與表題。
（4）本刊統(tǒng)一采用頁底腳注的形式，每頁注釋重新編號，注釋序號用①，②……標識。注碼置于引文結束的標點符號之后右上方。
（5）計量和計數(shù)單位前需使用阿拉伯數(shù)字，外文字母、上下角標、黑白體、大小寫應準確表達，對易混淆的請用鉛筆標注。
電子工業(yè)專用設備雜志發(fā)文分析
電子工業(yè)專用設備主要機構發(fā)文分析
| 機構名稱 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
| 中國電子科技集團公司第四十五... | 646 | 半導體；光刻；晶圓；電機；拋光 |
| 中國電子科技集團公司第二研究... | 229 | 真空；電池；低溫共燒陶瓷；太陽能；封裝 |
| 中國電子科技集團公司第四十八... | 168 | 電池；太陽能電池；太陽能；均勻性；離子注入 |
| 中國電子科技集團公司第四十六... | 118 | 單晶；硅單晶；硅片；晶片；區(qū)熔 |
| 電子工業(yè)部 | 115 | 半導體；光刻；曝光機；切片；切片機 |
| 北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓；劃片；劃片機；鍵合；封裝 |
| 中華人民共和國工業(yè)和信息化部 | 75 | 光刻；電路；電子專用設備；集成電路；半導體 |
| 中國電子科技集團公司 | 68 | 電路；集成電路；化學機械拋光；機械拋光；晶片 |
| 中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻；刻蝕；激光；光刻機；投影光刻 |
| 中國科學院 | 54 | 光刻；光刻機；電路；半導體；電子束曝光 |
《電子工業(yè)專用設備》雜志是由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的雙月刊，審稿周期預計為1個月內(nèi)。該雜志的欄目設置豐富多樣，涵蓋先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養(yǎng)等。
該雜志為學者們提供了一個交流學術成果和經(jīng)驗的平臺，發(fā)表的文章具有較高的學術水平和實踐價值，為讀者提供更多的實踐案例和行業(yè)信息，得到了廣大讀者的廣泛關注和引用。
