《電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備》雜志的收稿方向主要包括:先進(jìn)封裝技術(shù)與設(shè)備、半導(dǎo)體制造工藝與設(shè)備、電子專(zhuān)用設(shè)備研究、專(zhuān)用設(shè)備維護(hù)與保養(yǎng)等。
該雜志收稿方向廣泛,涵蓋了電子的多個(gè)重要領(lǐng)域和前沿話題,為電子工作者和研究者提供了一個(gè)交流和分享學(xué)術(shù)成果的重要平臺(tái)。
《電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備》雜志投稿要求
(1)要求論文標(biāo)題簡(jiǎn)明、醒目,論文格式規(guī)范,論文自帶中/英文摘要(200字左右)及3~5個(gè)關(guān)鍵詞。
(2)投稿論文后,編輯部收到稿件后一個(gè)月內(nèi)通知作者初審結(jié)果,在此期間請(qǐng)勿一稿多投。
(3)正文應(yīng)條理清晰,層次分明。文中插圖應(yīng)比例適當(dāng)、清楚美觀,標(biāo)明圖序與圖題;表格應(yīng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔,盡量采用“三線表”,必要時(shí)可添加輔助線,要有表序與表題。
(4)本刊統(tǒng)一采用頁(yè)底腳注的形式,每頁(yè)注釋重新編號(hào),注釋序號(hào)用①,②……標(biāo)識(shí)。注碼置于引文結(jié)束的標(biāo)點(diǎn)符號(hào)之后右上方。
(5)計(jì)量和計(jì)數(shù)單位前需使用阿拉伯?dāng)?shù)字,外文字母、上下角標(biāo)、黑白體、大小寫(xiě)應(yīng)準(zhǔn)確表達(dá),對(duì)易混淆的請(qǐng)用鉛筆標(biāo)注。
《電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備》雜志是由中國(guó)電子科技集團(tuán)公司主管和中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所主辦的學(xué)術(shù)理論期刊,創(chuàng)刊于1971年,國(guó)內(nèi)外公開(kāi)發(fā)行,國(guó)際刊號(hào)ISSN為1004-4507,國(guó)內(nèi)刊號(hào)CN為62-1077/TN,該雜志級(jí)別為部級(jí)期刊,預(yù)計(jì)審稿周期為1個(gè)月內(nèi)。
電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備雜志數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)
電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備主要引證文獻(xiàn)期刊分析
該雜志在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力,多次獲得國(guó)內(nèi)外權(quán)威獎(jiǎng)項(xiàng),如Caj-cd規(guī)范獲獎(jiǎng)期刊、中國(guó)優(yōu)秀期刊遴選數(shù)據(jù)庫(kù)、中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù)(CJFD)等。
在收錄方面,《電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備》雜志被多個(gè)知名數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,包括:知網(wǎng)收錄(中)、維普收錄(中)、萬(wàn)方收錄(中)、國(guó)家圖書(shū)館館藏、上海圖書(shū)館館藏等,在電子領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)價(jià)值和影響力,是電子研究者和實(shí)踐者的重要參考刊物。
電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備雜志發(fā)文分析
電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備主要機(jī)構(gòu)發(fā)文分析
機(jī)構(gòu)名稱(chēng) | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五... | 646 | 半導(dǎo)體;光刻;晶圓;電機(jī);拋光 |
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第二研究... | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽(yáng)能;封裝 |
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八... | 168 | 電池;太陽(yáng)能電池;太陽(yáng)能;均勻性;離子注入 |
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六... | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區(qū)熔 |
電子工業(yè)部 | 115 | 半導(dǎo)體;光刻;曝光機(jī);切片;切片機(jī) |
北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機(jī);鍵合;封裝 |
中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專(zhuān)用設(shè)備;集成電路;半導(dǎo)體 |
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司 | 68 | 電路;集成電路;化學(xué)機(jī)械拋光;機(jī)械拋光;晶片 |
中國(guó)電子科技集團(tuán)第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機(jī);投影光刻 |
中國(guó)科學(xué)院 | 54 | 光刻;光刻機(jī);電路;半導(dǎo)體;電子束曝光 |