《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志影響因子：2.4。
期刊Journal Of Vacuum Science & Technology A近年評價數據趨勢圖
期刊影響因子趨勢圖
以下是一些常見的影響因子查詢入口：
（1）Web of Science：是查詢SCI期刊影響因子的權威平臺，收錄全球高質量學術期刊，提供詳細的期刊引證報告，包括影響因子、分區、被引頻次等關鍵指標。
（2）?Journal Citation Reports (JCR)：JCR是科睿唯安旗下的一個網站，提供了期刊影響因子、引用數據和相關指標。用戶可以在該網站上查找特定期刊的影響因子信息。
（3）中科院SCI期刊分區表：提供中科院分區的期刊數據查詢，包括影響因子和分區信息。
《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志是由AVS Science and Technology Society出版社主辦的一本以材料科學：膜-工程技術為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優秀期刊。
該雜志出版語言為English，創刊于1983年。自創刊以來，已被SCIE（科學引文索引擴展板）等國內外知名檢索系統收錄。該雜志發表了高質量的論文，重點介紹了MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS在分析和實踐中的理論、研究和應用。
?學術地位：在JCR分區中位列Q3區，中科院分區為材料科學大類3區，MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS材料科學：膜小類3區。
期刊發文分析
機構發文量統計
| 機構 | 發文量 |
| UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) | 58 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQ... | 30 |
| UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE | 26 |
| LINKOPING UNIVERSITY | 25 |
| UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 24 |
| UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 20 |
| CEA | 18 |
| UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 17 |
| UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 17 |
| LAM RESEARCH CORPORATION | 16 |
國家 / 地區發文量統計
| 國家 / 地區 | 發文量 |
| USA | 368 |
| Japan | 77 |
| GERMANY (FED REP GER) | 61 |
| South Korea | 56 |
| France | 44 |
| Sweden | 33 |
| CHINA MAINLAND | 31 |
| England | 29 |
| Finland | 26 |
| Netherlands | 26 |
期刊引用數據次數統計
| 期刊引用數據 | 引用次數 |
| J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
| J APPL PHYS | 549 |
| APPL PHYS LETT | 448 |
| THIN SOLID FILMS | 363 |
| PHYS REV B | 338 |
| SURF COAT TECH | 277 |
| CHEM MATER | 221 |
| APPL SURF SCI | 202 |
| J ELECTROCHEM SOC | 168 |
| J VAC SCI TECHNOL B | 141 |
期刊被引用數據次數統計
| 期刊被引用數據 | 引用次數 |
| J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
| THIN SOLID FILMS | 321 |
| SURF COAT TECH | 303 |
| APPL SURF SCI | 280 |
| JPN J APPL PHYS | 253 |
| J APPL PHYS | 217 |
| J PHYS CHEM C | 201 |
| VACUUM | 185 |
| CHEM MATER | 155 |
| ACS APPL MATER INTER | 149 |
文章引用數據次數統計
| 文章引用數據 | 引用次數 |
| Review Article: Stress in thin films and c... | 72 |
| Status and prospects of plasma-assisted at... | 26 |
| Practical guides for x-ray photoelectron s... | 23 |
| Functional model for analysis of ALD nucle... | 19 |
| Review Article: Catalysts design and synth... | 16 |
| Paradigm shift in thin-film growth by magn... | 14 |
| Review Article: Atomic layer deposition fo... | 14 |
| Atomic layer deposition of silicon-based d... | 13 |
| Review Article: Crystal alignment for high... | 12 |
| Vapor-deposited octadecanethiol masking la... | 11 |
