半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)雜志投稿要求是什么?

《半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)》雜志投稿要求,如下:

(1)請勿一稿多投,嚴(yán)禁抄襲、剽竊。

(2)論文內(nèi)容要求:題目、作者姓名、單位、摘要、關(guān)鍵詞、圖題和表題、基金、第一作者簡介。

(3)引言言簡意賅,突出重點。不應(yīng)過多敘述同行熟知及教科書中的常識性內(nèi)容,引言作為論文的開端,主要回答“為什么研究”這一問題。

(4)參考文獻要求在文中對應(yīng)處以上角標(biāo)形式按引用順序標(biāo)出序號。作者超過3個時,只著錄前3個,其后以“,”斷開加“等”。

(5)注釋:解釋題名、作者及某些內(nèi)容,均可使用注釋。能在文章內(nèi)用括號注釋的,盡量不單獨列出;不隨文列出的注釋,標(biāo)注符號應(yīng)注在需要注釋的詞、詞組或語句的右上角,用①,②,③……表示,并于文后依次列出。

半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)雜志發(fā)文分析

半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)主要機構(gòu)發(fā)文分析

機構(gòu)名稱 發(fā)文量 主要研究主題
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《半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)》雜志是由重慶光電技術(shù)研究所主辦的季刊,審稿周期預(yù)計為1個月內(nèi)。該雜志的欄目設(shè)置豐富多樣,涵蓋科技論文 研究報告 性能分析 產(chǎn)品介紹 光電技術(shù)應(yīng)用 學(xué)術(shù)爭鳴等。

該雜志為學(xué)者們提供了一個交流學(xué)術(shù)成果和經(jīng)驗的平臺,發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)水平和實踐價值,為讀者提供更多的實踐案例和行業(yè)信息,得到了廣大讀者的廣泛關(guān)注和引用。

半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)雜志數(shù)據(jù)統(tǒng)計

半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)主要引證文獻期刊分析
半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)雜志

半導(dǎo)體光子學(xué)與技術(shù)雜志

主管單位:信息產(chǎn)業(yè)部

主辦單位:重慶光電技術(shù)研究所

季刊,正版雜志,提供發(fā)票

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